Etude sur les phénomènes de réactivité et de contamination des wafers par les contaminants présents
dans les phases gazeuses des atmosphères industrielles
Description du sujet
L’industrie du semi-conducteur a la particularité d’évoluer très rapidement en fonction des besoins des consommateurs. Ces besoins grandissants, notamment dans les domaines de l’informatique ou des télécommunications, ont conduit à une intégration de plus en plus importante des circuits et à une amélioration de leurs performances. En 20 ans, des blocs de fonctions élémentaires se sont transformés en système complet sur une seule puce.
La diminution des dimensions des circuits implique l’utilisation d’un nombre accru de transistors. Il a donc fallu réduire la taille et complexifier la structure des briques formant les transistors ainsi que leurs structures d’isolation. En 20 ans, l’industrie est passée de la dimension micrométrique à la dimension nanométrique. Ces contraintes ont nécessité un effort crucial sur les niveaux de contamination. En effet, une très faible dose de contaminants suffit à détruire les capacités fonctionnelles d’un circuit.
Le projet vise à lever les verrous technologiques liés à la quantification de l’impact de la contamination sur les dispositifs microélectroniques avancés, en améliorant les performances de certaines techniques analytiques (en termes de limites de détection et de résolution spatiale). Les méthodes et moyens prévus pour lever ces verrous sont d’une part la mesure de niveaux très faibles avec des techniques expérimentales nouvelles, et d’autre part des simulations et des tests électriques ciblés et innovants.
L'équipe Instrumentation et Réactivité Atmosphérique (IRA) travaille sur les phénomènes de réactivité et de contamination des surfaces solides (optiques, nanoparticules, wafers…) par les contaminants présents dans les phases gazeuse et particulaire des atmosphères industrielles ou naturelles.
En outre, cette équipe dispose de moyens analytiques basés sur la spectrométrie de masse à temps de vol permettant une analyse en ligne et en continu des contaminants présents dans les atmosphères des salles blanches et des équipements de la microélectronique. Afin d’identifier, les COV susceptibles de s'adsorber sur les semi-conducteurs en cours de fabrication, un dispositif expérimental a été développé. Il permet d'exposer des surfaces de wafers à un flux gazeux contenant des concentrations constantes et connues du polluant à tester.
Sujet ouvrant sur une thèse ? oui
Responsable du stage de MASTER : GLIGOROVSKI Saso |